Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications - Pierson, Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired)) - Bøker - William Andrew Publishing - 9780815514329 - 31. desember 1999
Ved uoverensstemmelse mellom cover og tittel gjelder tittel

Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications 2. utgave

Pierson, Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired))

Pris
R$ 1.617,90

Bestillingsvarer

Forventes levert 10. - 21. okt

Kundene våre sier:

14 dages returrett
Toppvurdering på Trustpilot
Legg til iMusic ønskeliste
eller

Finnes også som:

Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications 2. utgave

Offers an understanding of the advances in the Chemical Vapor Deposition (CVD) process. This book features data on both Plasma CVD and metallo-organic CVD processes. It also explains growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.

506 pages

Media Bøker     Innbunden bok   (Bok med hard rygg og stivt omslag)
Utgitt 31. desember 1999
ISBN13 9780815514329
Utgivere William Andrew Publishing
Antall sider 506
Mål 164 × 237 × 40 mm   ·   843 g
Språk Engelsk  
Vis alle

Mer med Pierson, Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired))

Se alt med Pierson, Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired)) ( f.eks. Innbunden bok )