Fortell venner om denne varen:
The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses Zhiqiang Li Softcover reprint of the original 1st ed. 2016 edition
Pris
NZ$ 97
Bestillingsvarer
Forventes levert 17. - 25. des
Julegaver kan byttes frem til 31. januar
Legg til iMusic ønskeliste
eller
Finnes også som:
The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses
Zhiqiang Li
59 pages, 49 Illustrations, color; 3 Illustrations, black and white; XIV, 59 p. 52 illus., 49 illus.
| Media | Bøker Pocketbok (Bok med mykt omslag og limt rygg) |
| Utgitt | 7. juni 2018 |
| ISBN13 | 9783662570265 |
| Utgivere | Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm |
| Antall sider | 59 |
| Mål | 150 × 220 × 10 mm · 151 g |
| Språk | Tysk |