Plasma Processes for Semiconductor Fabrication - Cambridge Studies in Semiconductor Physics and Microelectronic Engineering - W. N. G. Hitchon - Bøker - Cambridge University Press - 9780521018005 - 29. september 2005
Ved uoverensstemmelse mellom cover og tittel gjelder tittel

W. N. G. Hitchon
Plasma Processes for Semiconductor Fabrication - Cambridge Studies in Semiconductor Physics and Microelectronic Engineering

Pris
NOK 989

Bestillingsvarer

Forventes levert 9. - 23. nov
Julegaver kan byttes frem til 31. januar
Få varsel om nye utgivelser fra W. N. G. Hitchon

Kundene våre sier:

14 dages returrett
Toppvurdering på Trustpilot
Legg til iMusic ønskeliste
eller

Ikke vurdert ennå

Finnes også som:

Self-contained book providing an up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication. Presents the basic physics and chemistry of these processes, and shows how they can be accurately modelled. Suitable as a graduate-level textbook, and will also be a useful reference for practising engineers in the semiconductor industry.

232 pages, 31 b/w illus. 2 tables 33 exercises

Media Bøker     Pocketbok   (Bok med mykt omslag og limt rygg)
Utgitt 29. september 2005
ISBN13 9780521018005
Utgivere Cambridge University Press
Antall sider 232
Mål 178 × 254 × 15 mm   ·   440 g
Språk Engelsk  
Serieredaktør Ahmad, Haroon
Serieredaktør Broers, Alec
Serieredaktør Pepper, Michael

Mer fra samme **utgiver**

Se alt med W. N. G. Hitchon